◾ساخت وبررسی خواص اپتوالکترونیکی نانو سیم های اکسید روی ZnO

امروزه نانوسيم ها، کاربردهاي فراوان و منحصر به فردي در ساخت قطعات نانوالکترونيک دارند. براي استفاده و بررسي نانوسيم ها قدم اول رشد آنهاست. در این پروژه نانوسيم هاي اکسيدروي به روش لايه نشاني بخار شيميايي(CVD)  برروی زیرلایه سیلیکن رشد داده شده اند و خواص آنها و چگونگي رشد آنها بررسي شده است. در شرايط مختلف نانوسيم های اکسیدروی – که از نادر ترين ساختارهاي اکسيدروي است- رشد داده شده اند. هنگام رشد با شرايط متفاوت از دوکاتالیست طلا وتیتانیوم، با ضخامت های مختلف استفاده شده است. وبراي اولين بار این روش رشد بدون گازحامل انجام شد و به سرانجام رسید.

نهايتاً توانسته‌ايم نانوسيم هاي ZnO توليد کنيم. تصاوير SEM و نمودارهاي XRD  اين نانوسيم ها مورد مطالعه قرار گرفته است.

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *